可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃

申    请    号：  200710097527.0 申   请   日：   2007.04.26 
名          称：   可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃  
公 开 (公告) 号：  CN101058486  公开(公告)日：   2007.10.24  
主  分  类  号：   C03C17/34(2006.01)I 分案原申请号：   
分    类    号：   C03C17/34(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)N  
颁   证     日：    优   先   权：   
申请(专利权)人：   天津南玻工程玻璃有限公司  
地          址：  301700天津市武清开发区福源道 
发 明 (设计)人：  王 烁;徐伯永  国  际 申 请：   
国  际  公  布：   进入国家日期：   
专利 代理 机构：   中国国际贸易促进委员会专利商标事务所  代   理   人：  李 帆 
  
  摘要　  
 本发明涉及一种镀膜玻璃，该镀膜玻璃按如下顺序包括：玻璃基片；在玻璃基片上的第一基层电介质层；在第一基层电介质层上的第二基层电介质层；在第二基层电介质层上的第一保护阻隔层；在第一保护阻隔层上的银层；在银层上的第二保护阻隔层；在第二保护阻隔层上的第一外层电介质层；在第一外层电介质层上的第二外层电介质层；在第二外层电介质层上的保护阻挡层。